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进一步分析发现，Sankar指出，尽管市场对ASML极紫外光刻设备的依赖度呈现缓和迹象，但未来数代逻辑芯片与存储芯片的生产仍将更多地倚赖此类设备。先进制程晶圆代工的投资逻辑已较为明确，而DRAM技术路线图中引入极紫外光刻层的潜力尚未被市场充分认知。
面对美高中生发明无膜磁性带来的机遇与挑战，业内专家普遍建议采取审慎而积极的应对策略。本文的分析仅供参考，具体决策请结合实际情况进行综合判断。